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ICP等離子發(fā)射光譜儀SPECTRO GENESIS

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SPECTROGENESISICP全譜直讀等離子發(fā)射光譜儀采用ICP激發(fā)源和半導(dǎo)體固態(tài)檢測(cè)器的全自動(dòng)發(fā)射光譜同時(shí)檢測(cè)的全譜直讀發(fā)射光譜儀，用于對(duì)液體樣品中各種元素的定性、半定量和定量分析

詳細(xì)介紹

SPECTRO GENESIS ICP全譜直讀等離子發(fā)射光譜儀
  采用 ICP激發(fā)源和半導(dǎo)體固態(tài)檢測(cè)器的全自動(dòng)發(fā)射光譜同時(shí)檢測(cè)的全譜直讀發(fā)射光譜儀，用于對(duì)液體樣品中各種元素的定性、半定量和定量分析?？梢詸z測(cè)72個(gè)元素，檢測(cè)范圍PPB-35%
部分元素檢出限：（單位：PPB）
     Ag:0.5、 Al:0.6、 As:2.5、 Au:4、 B:0.3 、Ba:0.2 、Be:0.5 、Bi:1
      Ca:0.5、 Cd:0.1、 Ce:5、 Co:0.2、 Cr:0.4 、Cu:0.4 、Fe:0.2、 Ga:2
      Gd:3、 Ge:2、 Hg:1、 n:5、 Ir:6、 K:1.7、 La:0.5、 Li:0.3、 Mg:0.3
      Mn:0.05、 Mo:0.5、 Na:0.9、 Ni:0.3、 Os:10、 P:6.5、 Pb:1.1、 Pd1.2
      Pt:2.2、 Re:4、 Rh:4、 Ru:1.1 、S:6 、Sb:1.5 、Se:2.5 、Si:1.5、 Sn:1.8
      Te:5、 Ti:0.1、 V:0.35、 Y:0.4、 Zn:0.2、 Zr:0.2

應(yīng)用SPECTRO側(cè)向等離子體接口（SPI）的側(cè)向觀測(cè)等離子體用于高濃度和主成分檢測(cè)、高固含量和有機(jī)物分析，可以提高線性范圍、準(zhǔn)確度和精度。

利用優(yōu)化的層流、低流速吹掃機(jī)理的SPI保證光路中無氧氣、減少對(duì)紫外區(qū)波長(zhǎng)的吸收。這個(gè)技術(shù)可保證易維護(hù)的入射光學(xué)組件不受污染，使得175-190nm光譜范圍的譜線的穩(wěn)定和超常的靈敏度。

用于工業(yè)分析的工廠預(yù)校準(zhǔn)分析方法包。下面是可供選擇的方法包：
工業(yè)廢水（只有基本的方法）、污泥、土壤、油品中磨損金屬/添加劑、礦石、金屬材料

分光系統(tǒng)：
恒溫在+30C  0.1C；中空防熱彭脹雙帕邢－龍格羅蘭圓設(shè)計(jì)；焦距400mm；全息凹面原光柵，刻線密度2400刻線/mm；石英光學(xué)部件；全部是1級(jí)波長(zhǎng)覆蓋；波長(zhǎng)范圍：175 - 777 nm；入射狹縫：15 μm

檢測(cè)器：
根據(jù)所在波長(zhǎng)精心選擇并進(jìn)行化設(shè)計(jì)的15個(gè)線性CCD連續(xù)排列在羅蘭圓上；分辨率14pm；與光學(xué)系統(tǒng)一樣恒溫在；動(dòng)態(tài)范圍為108，全波長(zhǎng)覆蓋，ICAL自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)化

紫外系統(tǒng)：
氬氣吹掃系統(tǒng), 化低流量吹掃(只在分析190nm以下元素時(shí)使用)

高頻發(fā)生器：免維護(hù)型，頻率為27.12MHz，發(fā)生器功率：0.7 to 1.7 kW

進(jìn)樣系統(tǒng)及炬管單元
• Lock-in-Place快速換裝設(shè)計(jì)
• Gas flows under full computer control氣體流量全部由計(jì)算機(jī)控制
o Plasma gas等離子氣  : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas輔助氣  : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas霧化氣  : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments
• 計(jì)算機(jī)控制4速、3通道、12滾軸進(jìn)樣蠕動(dòng)泵

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