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March AP系列等離子清洗機(jī) 批處理等離子清洗設(shè)備

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March AP系列等離子清洗機(jī) 批處理等離子清洗設(shè)備

詳細(xì)介紹

AP300 & AP600

AP1000

AP1500

Nordson MARCH AP 系列批處理真空等離子系統(tǒng)提供了小、中、大三種不同真空腔體尺寸的選擇，無(wú)論客戶是希望用于R&D還是不同等級(jí)的生產(chǎn)環(huán)境，均可以給客戶提供工藝關(guān)聯(lián)的、控制連續(xù)的、可靠的、和可重復(fù)的真空氣體等離子處理系統(tǒng)。

AP 系列等離子處理機(jī)器適合于廣泛的等離子清洗、表面活化和粘接力增強(qiáng)應(yīng)用。這些能力可用于半導(dǎo)體封裝工廠，微電子封裝和組裝，也可以用于醫(yī)藥和生命科學(xué)器件的生產(chǎn)。

等離子處理設(shè)備的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

? 帶觸摸屏的PLC控制器提供了直觀圖形界面和實(shí)時(shí)工藝呈現(xiàn)。
? 無(wú)論是直接等離子，還是下游等離子模式，彈性架板結(jié)構(gòu)都可以應(yīng)對(duì)各種不同的樣品載具。
? 13.56 MHz 射頻發(fā)生器有自動(dòng)阻抗調(diào)諧，實(shí)現(xiàn)了成熟的工藝再現(xiàn)性。
? 專有的軟件控制系統(tǒng)生成工藝和生產(chǎn)數(shù)據(jù)用于統(tǒng)計(jì)制成控制。
? 批處理類型，每一個(gè)單元都包含在機(jī)器內(nèi)部，只需要較小的占地面積。
? 泵、腔體、電子控制、13.56 MHz射頻源都被封裝在一個(gè)箱體內(nèi)。

AP-300和AP-600等離子清洗機(jī)：AP-300和AP-600系統(tǒng)適合多種多樣的等離子清洗、表面活化和改善附著力等應(yīng)用。這些能力可以用于半導(dǎo)體制造、微電子封裝和組裝、醫(yī)療設(shè)備和生命科學(xué)器件的制造等。

AP-300系統(tǒng)能夠適合廣泛的工藝氣體，包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣及氟化氣體。通過(guò)2個(gè)標(biāo)準(zhǔn)配置的氣體流量控制器控制用于較好的氣體控制。系統(tǒng)還可以選配2路氣體，即最多可達(dá)4路。

AP-1000等離子清洗機(jī)：搭配HTP(高產(chǎn)能)電極的AP-1000等離子系統(tǒng)是綜合了March擁有的電極設(shè)計(jì)和AP-1000的高可靠性及其優(yōu)良的工藝性。AP-1000 HTP充分利用了射頻等離子產(chǎn)生的活性離子，不僅縮短工藝時(shí)間而且提高處理均勻性。

AP-1000HTP配備4路氣體流量控制器，因工藝需求可選周不同的氣體包括氬氣、氫氣和氦氣等。
開(kāi)槽式料盒可豎放于工藝腔內(nèi)，通常每個(gè)料盒最少可放置20條引線框，根據(jù)料盒尺寸大小，一爐可最多放置12個(gè)料盒。

AP-1500等離子清洗機(jī)：AP-1500系統(tǒng)設(shè)計(jì)為等離子清潔和表面處理應(yīng)用提供的性能。水平電極（掛架）可方便大批量裝載。

AP-1500系統(tǒng)采用*的功率匹配算法和控制系統(tǒng)算法，實(shí)現(xiàn)等離子效率提高。直觀的觸摸屏控制面板可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和控制等離子體處理過(guò)程。控制系統(tǒng)具有多級(jí)密碼保護(hù)，防止未經(jīng)的人修改程式。同時(shí)保證從爐到爐系統(tǒng)性能的一致性。

AP-1500系統(tǒng)還可提供滑動(dòng)水平置物架，方便裝卸。該系統(tǒng)緊湊、便于維護(hù)的設(shè)計(jì)使其占用空間很小，該系統(tǒng)只有前面和后面有檢修通道。因此，多個(gè)系統(tǒng)可并排放置，實(shí)現(xiàn)占地空間利用率的提高。

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