儀器介紹
W5型全譜直讀光譜儀可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統(tǒng)采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能******、******的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗積累，針對不同材料、不同要求，設計了這款全新的、更具性價比的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的應用。
產(chǎn)品特點
l 性能的光學系統(tǒng)
² 帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。
² 直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件，******紫外區(qū)域的高性能。
² 高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩(wěn)定性，更強的靈敏度，滿足N的分析要求。
l 智能數(shù)字激發(fā)光源
² 全數(shù)字化智能復合光源DDD技術，帶來分析性能。
² 緊湊的設計及半導體控制技術，使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強的******性。
² 高能預燃技術（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。
l 激發(fā)臺直接將激發(fā)光導入光學系統(tǒng)
² 開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。
² 變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
² 視頻識別技術，確保樣品臺激發(fā)安全，可監(jiān)測樣品臺的全景。
l 智能集成氣路模塊
² 智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
² 的氬氣噴射技術，有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號，提高精度和穩(wěn)定性。
² 激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性。
l 智能真空測量和控制
² 真空系統(tǒng)******程控，在******真空度的同時減少真空泵的運行時間，
² 雙級設置，在儀器不運行的情況下，開啟待機真空運行狀態(tài)。
² 多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學元器件在******的環(huán)境中工作。
l 透鏡清理裝置
² 不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時有良好的隔離效果。
² 單板式透鏡設計，拆裝方便。
² 交叉機械裝置，在未解除隔離的情況有效保護光學系統(tǒng)。
應用領域
技術參數(shù)：
| 項目 | 指標 |
| 檢測基體 | 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體 |
| 光學系統(tǒng) | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng) |
| 波長范圍 | 165~580nm（可安裝上下限檢測器擴大波長范圍） |
| 光柵焦距 | 400mm |
| 探 測 器 | 高分辯率多CMOS圖像傳感器 |
| 光源類型 | DDD數(shù)字激發(fā)光源，高能預燃技術（HEPS） |
| 放電頻率 | 100-1000Hz |
| 放電電流 | 不高于 400A |
| 檢測時間 | 依據(jù)樣品類型而定，一般在25s左右 |
| 電極類型 | 鎢材噴射電極 |
| 分析間隙 | 樣品臺分析間隙:3.4mm |
| 真空系統(tǒng) | 真空軟件自動控制、監(jiān)測 |
| 光室恒溫 | 34℃，溫度自動監(jiān)測 |
| 氬氣純度 | 99.999% |
| 氬氣壓力 | 0.5MPa |
| 工作電源 | AC220V 50/60Hz |
| 儀器尺寸 | 860*680*438mm |
| 儀器重量 | 約100kg |
