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XploRA Nano納米拉曼光譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱廣東新一辰設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地東莞市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/11/15 10:13:50
  • 訪問次數(shù)89
產品標簽:

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廣東新一辰設備有限公司坐落于廣東省東莞市鳳崗鎮(zhèn)美麗的京東智谷智能產業(yè)創(chuàng)新科技中心,是一家專注于半導體行業(yè)測量設備的公司,公司由專注于測量實驗室建設與管理10余年的專業(yè)人士組建,有在測量設備行業(yè)深耕10余年的深圳市駿輝騰科技有限公司入股,我們不僅能夠提供專業(yè)的設備,服務,而且我們同樣注重客戶的使用體驗,感受。公司秉承【服務至上,質量更優(yōu);成就客戶,互惠共贏】的經營理念,集行的實力制造商于一體,力爭成為半導體行業(yè)專業(yè)的檢測設備一站式服務商。公司主營半導體行業(yè)的檢測設備,代理有HORIBA的全系統(tǒng)產品,更有自主開發(fā)的具有國際競爭力的氙燈耐候試驗箱,接觸角測試儀,等離子清洗設備等。歡迎您詳細了解。
試驗箱
多樣品分析平臺宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進行簡單易用全自動操作,在幾分鐘內即可開始測量,而不是幾小時!真正的共聚焦高空間分辨率,自動樣品臺,全顯微鏡可視化
XploRA Nano納米拉曼光譜儀 產品信息


多樣品分析平臺

宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進行

簡單易用

全自動操作,在幾分鐘內即可開始測量,而不是幾小時!

真正的共聚焦

高空間分辨率,自動樣品臺,全顯微鏡可視化。

高收集效率

頂部和側向拉曼光譜檢測都可以獲得高分辨和高通量測量同區(qū)域和針尖增強光譜測量(TERS和TEPL)

高光譜分辨率

高光譜分辨能力,多光柵自動切換,寬光譜范圍的拉曼和光致發(fā)光分析。

高空間分辨率

針尖增強的納米級光譜分辨率(優(yōu)于10nm)

豐富的光學光譜(拉曼和光致發(fā)光)

多技術/多環(huán)境

結合TERS/TEPL化學成像的多模式SPM技術包括AFM、導電和電學模式(cAFM、KPFM)、STM、液池和電化學環(huán)境。一個工作站和強大的軟件即可對兩臺儀器進行控制,SPM和光譜儀可以同時或獨立操作。

堅固性/穩(wěn)定性

高共振頻率AFM掃描器,遠離噪音干擾!高性能表現(xiàn),無需主動隔振系統(tǒng)。


配置

SmartSPM掃描器和基座

閉環(huán)平板掃描器: 100 µm x 100 µm x 15 µm (±10 %)

掃描器非線性:XY≤0.05 %; Z≤0.05 %

噪聲水平:XY≤0.1 nm RMS(200 Hz帶寬,電容傳感器打開);XY≤0.02 nm RMS(100 Hz帶寬,電容傳感器關閉);Z<0.04 nm="" rms="" (1000="">

高頻掃描器:XY≥7 kHz; Z≥ 15 kHz

X, Y, Z自動趨近:XYZ數(shù)字閉環(huán)控制,Z向馬達趨近距離18mm

樣品尺寸:40 mm x 50 mm x 15 mm

樣品定位:自動樣品臺范圍:5 mm x 5 mm

定位精度:1µm

AFM測試頭

激光波長:1300nm(光譜檢測器無干擾)

激光準直:全自動懸臂—光電二極管激光準直

探針通道:為外部操作和探針提供自由通道

SPM測量模式

標準模式:接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、相位成像模式、側向力模式(LFM)、力調制模式、磁力顯微鏡模式(MFM)、開爾文探針模式(表面電勢,SKM,KPFM)、掃描電容模式、靜電力顯微鏡模式(EFM)、力曲線測量、壓電響應模式(PFM)、納米蝕刻、納米操縱

升級模式:溶液環(huán)境接觸模式、溶液環(huán)境半接觸模式、導電力顯微鏡模式、STM模式、光電流成像模式、伏安特性曲線測量等

光譜模式

共聚焦拉曼、熒光和光致發(fā)光光譜和成像

針尖增強拉曼光譜(AFM,STM等)

針尖增強熒光

近場光學顯微鏡和光譜(NSOM/SNOM)

導電力AFM(選購)

電流范圍:100fA~10µA;三檔量程自動切換(1 nA, 100 nA 和 10 µA)

光路耦合通道

頂部和側向能夠同時使用消色差物鏡:從頂部或側向可用100X,NA0.7物鏡;可同時使用20倍和100倍

長期光譜激光穩(wěn)定對準的閉環(huán)壓電物鏡掃描器:20µm x 20µm x 15µm;

分辨率:1nm

光譜儀

全自動緊湊型XploRA Plus顯微光譜儀,可獨立使用顯微拉曼光譜儀

波長范圍:75cm-1至4000 cm-1

光柵:四光柵自動切換(600, 1200, 1800 and 2400 g/mm)

自動化:全自動,軟件控制操作

檢測器

全光譜范圍CCD和EMCCD檢測器。

光源

典型波長:532nm、638nm、785nm;其它波長可根據(jù)需求提供

自動化:全自動,軟件控制操作

軟件

集成軟件包,包括全功能SPM、光譜儀和數(shù)據(jù)采集控制、光譜和SPM數(shù)據(jù)分析和處理套件,包括光譜擬合、去卷積和濾波,可選模塊包括單變量和多變量分析套件(PCA、MCR、HCA、DCA),顆粒檢測和光譜搜索功能。


典型應用

爆炸物納米顆粒表征

石墨烯納米帶的TERS表征

光刻技術誘導的石墨烯損傷的納米尺度表征

本應用報告介紹了對電子束光刻法制造的石墨烯納米帶(GNRs)的TERS表征。TERS可實現(xiàn)的化學納米尺度分辨率揭示了GNRs邊緣的無定形碳的存在,并定位了有機殘留物。TERS可以被認為是表征納米石墨烯的一個有價值的工具,這是開發(fā)基于石墨烯的納米設備的一個重要步驟。



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