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大悅維佳（北京）科技有限公司
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更新時間：2025-05-28 07:26:13瀏覽次數(shù)：16次
聯(lián)系我時，請告知來自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)LEICADM750M金相顯微鏡的特點：◇徠卡leicaDM750M是一臺理想地適用于基礎(chǔ)材料應(yīng)用的工業(yè)實驗室或材料科學(xué)的光學(xué)設(shè)備
◇ 徠卡leicaDM750M 是一臺理想地適用于基礎(chǔ)材料應(yīng)用的工業(yè)實驗室或材料科學(xué)的光學(xué)設(shè)備。它的載物臺和反射光系統(tǒng)適合幾乎所有的樣品來獲取高品質(zhì)圖像。
◇ 機(jī)械載物臺可以同時適配于透射光和反射光的應(yīng)用。它可以裝配多種樣品夾來固定不通直徑尺寸的試樣。
◇ 的LED反射光照明提供了明場、偏振光和傾斜光照明模式，這可以讓客戶在同一臺顯微鏡上觀察多種不同的樣品。
◇ 照明 LED照明同時適用于透射光和反射光，提供給系統(tǒng)平均超過20年使用壽命的白色冷光，節(jié)省了未來20年更換燈泡的成本。
◇ 反射光照明器帶有LED 切邊技術(shù)，可廣泛適應(yīng)明場、偏光，4段傾斜光的照明滿足日常實驗室需求。
◇ 高達(dá)1000倍的放大倍數(shù) 擁有4孔或5孔物鏡轉(zhuǎn)盤的機(jī)座，可以裝備全系列的物鏡組，放大倍數(shù)從50倍到1000倍。
◇ 配備M25 的 4 位或 5 位物鏡轉(zhuǎn)換盤。 標(biāo)配高反差平場 EPI 系列物鏡。提供 50x 至 1000x 放大倍率，可以選裝高性能物鏡系列中的任意物鏡。
◇ 在狀態(tài)下操作 "工業(yè)級" 平面移動載物臺配25到30毫米的樣品夾，適合反射光和透射光的應(yīng)用。
◇ 通用“工作"十字載物臺，適合反射光和發(fā)射光應(yīng)用，可用于觀察樣品厚度達(dá) 30 mm 的拋光樣品或/和風(fēng)化樣品。特殊的 (申請的) 樣品支座，適用于直徑 25 mm 至30 mm 的樣品。樣品引導(dǎo)裝置，精確定位樣品的 X/Y 位置。
| Leica DM750M | with 4-position nosepiece for reflected & oblique light including industrial stage & stage wells | with 5-position nosepiece for RL, TL, oblique & polarized light including industrial stage & stage wells, |
|---|---|---|
| STAND | Leica DM750 M with 4-position nosepiece | Leica DM750 M with 5-position nosepiece & industrial stage (right hand) |
| TUBES | 30° binocular tube | 30° Trinocular tube |
| EYEPIECES | 10×/20 focusing eyepiece with eyeguard | |
| 10×/20 eyepiece with eyeguard | ||
| LLUMINATION | Incident light axis with LED illumination | Reflected light illuminator kit LED (RL-Axis, slot, polarizer & analyzer) |
| STAGE WELL PLATES | Stage well for small diameter samples | Stage well for small diameter samples |
| Stage well for large diameter samples | Stage well for large diameter samples | |
| Abbe condensor | ||
| OBJECTIVES | Objective HI PLAN EPI 5×/0.12 | Objective HI PLAN EPI 5×/0.12 |
| Objective HI PLAN EPI 10×/0.25 | Objective HI PLAN EPI 10×/0.25 | |
| Objective HI PLAN EPI 20×/0.40 | Objective HI PLAN EPI 20×/0.40 | |
| Objective N PLAN EPI 50×/0.75 | Objective N PLAN EPI 50×/0.75 | |
| Objective N PLAN EPI 100×/0.75 | ||
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