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活性炭吸附設(shè)備

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活性炭吸附設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

UV光解設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變有機(jī)廢氣。

詳細(xì)介紹

概述

1、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變有機(jī)廢氣如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對有機(jī)物具有的氧化作用，對有機(jī)廢氣及其它刺激性異味有很快的清除效果。
3、有機(jī)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對有機(jī)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使有機(jī)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

設(shè)備優(yōu)勢

一、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）．
二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。，
三、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
四、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000m3/h，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
五、無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。
六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
七、進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。